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  • 浅谈MEMS制造工艺之光刻工艺

    2019/8/19

    光刻是生产半导体元件的一个关键步骤,即如何将印在光掩膜上的外形结构转移到基质的表面上。光刻工艺过程与印刷术中的平版印刷的工艺过程类似。

  • 浅谈MEMS工艺技术之刻蚀

    2019/8/19

    刻蚀就是用化学的、物理的或同时使用化学和物理的方法,有选择地把没有被抗蚀剂掩蔽的那一部分薄膜层除去,从而在薄膜上得到和抗蚀剂膜上完全一致的图形。刻蚀技术主要分为干法刻蚀与湿法刻蚀。

  • 聚焦展会| 苏州原位芯片参加第二届微流控技术应用创

    2018/12/8

    2018年12月8-10日,第二届微流控技术应用创新论坛在国内微流控技术人员的热切期盼中在西安锦华大酒店召开,本次大会由西安交通大学承办。会议为从事生物、化学、医学、流体、电子、材...

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